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談?wù)劦入x子清洗設(shè)備那些所謂的疑難雜癥

更新時(shí)間:2018-06-07點(diǎn)擊次數(shù):2467
   等離子清洗設(shè)備等離子處理時(shí)間是否越長(zhǎng)越好?可以取消底涂嗎等等?這些問(wèn)題一直困擾著多數(shù)用戶(hù),所以就成了所謂的疑難雜癥,其他不然。等離子清洗設(shè)備的使用并沒(méi)有想象中的那么復(fù)雜,只是少數(shù)用戶(hù)沒(méi)有去細(xì)心關(guān)注而已.
  1、低溫等離子處理時(shí)間是否越長(zhǎng)越好
  不一定。低溫等離子體處理聚合物表面發(fā)生的交聯(lián)、化學(xué)改性、刻蝕主要是因?yàn)榈入x子體使聚合物表層分子發(fā)生斷鍵生成大量的自由基。實(shí)驗(yàn)說(shuō)明,隨著等離子處理時(shí)間的延長(zhǎng)、放電功率增大,生成的自由基強(qiáng)度增加,達(dá)到zui大點(diǎn)后進(jìn)入一種動(dòng)態(tài)平衡;放電壓力在某一定值時(shí),自由基強(qiáng)度出現(xiàn)zui大值,即在特定條件下低溫等離子體對(duì)聚合物表面反應(yīng)的程度zui深。
  2、低溫等離子清洗設(shè)備處理可以取消底涂嗎
  無(wú)論是在粘接、涂裝、植絨、移印還是噴碼,我們的低溫等離子表面處理設(shè)備一次又一次的替代了底涂,降低了生產(chǎn)成本,滿足環(huán)保的要求。
  3、產(chǎn)線速度能達(dá)到多少
  材料類(lèi)型不同、工藝不同、驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)不同,這個(gè)問(wèn)題沒(méi)有誰(shuí)能夠給出確切的答案。但根據(jù)我們過(guò)往應(yīng)用的經(jīng)驗(yàn),對(duì)于手機(jī)按鍵、手機(jī)殼的粘接前表面處理zui大線速度做到6米/分以上;對(duì)于密封條涂裝前表面處理zui大線速度做到了18米/分以上;對(duì)于密封條植絨前表面處理zui大線速度做到8米/分以上;更多的參數(shù)需要使用單位您和我們一起配合摸索。
  4、低溫等離子表面處理系統(tǒng)可以上線使用嗎
  答案是肯定的。無(wú)論是手機(jī)按鍵粘接、機(jī)殼涂裝、密封條植絨、密封條噴涂還是其他,低溫等離子表面處理系統(tǒng)的在線使用都已經(jīng)成為現(xiàn)實(shí)。我們還可以根據(jù)使用單位產(chǎn)線的特定要求,將系統(tǒng)和產(chǎn)線相匹配,無(wú)論是新線還是舊線改造,都可以滿足。
  5、經(jīng)過(guò)低溫等離子處理后增加的表面能保留多長(zhǎng)時(shí)間呢
  這是一個(gè)不能確定的問(wèn)題,因?yàn)樘幚砗罂赡芤驗(yàn)椴牧献陨淼男再|(zhì)、處理后受到二次污染、又發(fā)生化學(xué)反應(yīng)等原因,處理后表面能保留的時(shí)間不好確定。我們建議經(jīng)過(guò)低溫等離子處理達(dá)到較高表面能后,立刻進(jìn)行下一道工序,避免表面能衰減造成的影響。
  6、低溫等離子處理需要特殊氣體嗎
  在線處理過(guò)程中除了壓縮空氣,不需要其他特殊氣體。但如果是次大氣壓下的輝光放電設(shè)備,可以充入氬氣、氦氣等惰性氣體,在不同于空氣的氣氛條件下進(jìn)行表面處理。
  7、低溫等離子處理過(guò)程是否會(huì)產(chǎn)生污染
  低溫等離子表面處理是一種“潔凈"的處理工藝,處理過(guò)程中只有少量臭氧O3因?yàn)殡婋x空氣而產(chǎn)生,但對(duì)一些材料處理過(guò)程中會(huì)分解出少量氮氧化物,應(yīng)該配備排風(fēng)系統(tǒng)。
  8、低溫等離子處理會(huì)改變材料本身的性質(zhì)嗎
  低溫等離子表面處理只處理到埃米--微米級(jí)的材料表面,對(duì)材料的特性沒(méi)有影響。
  9、使用低溫等離子設(shè)備危險(xiǎn)嗎
  低溫等離子設(shè)備都是在高壓環(huán)境下工作,但設(shè)備在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和使用的過(guò)程中都會(huì)時(shí)刻將接地做為zui重要的標(biāo)準(zhǔn),并且電流很低。無(wú)意中接觸到等離子放電區(qū)域,會(huì)產(chǎn)生“針刺”感,但不會(huì)出現(xiàn)危機(jī)人身安全的問(wèn)題。我們通常會(huì)將放電區(qū)域屏蔽起來(lái),做到物理隔離。
  10、等離子清洗設(shè)備能夠處理溝槽等復(fù)雜三維面嗎
  無(wú)論對(duì)于片材、凹槽、孔、環(huán)狀等復(fù)雜三維面,我們都能夠提供相應(yīng)的低溫等離子表面處理系統(tǒng)。
  11、低溫等離子設(shè)備工作需要什么
  常用的低溫等離子設(shè)備單元功率約為1000W,只需要潔凈的壓縮空氣、供電電源220V/380V,以及排廢氣裝置。
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